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32 光刻战争(2 / 7)

,取决于光颜色),光波会严重影响光刻质量。到20世纪90年代,最先进晶体管以数百纳米为单位进行度量,但人们已经有可能设想出长度只有十几纳米更小晶体管。

马克·L.斯查腾贝格(MarkL.Schattenburg),《三束会议历史,信息诞生和石版印刷战时代》(Historyofthe“ThreeBeams”Conference,theBirthoftheInformationandtheEraofLithographyWars),https://eipbn.org/2020/wp-content/uploads/2015/01/EIPBN_history.pdf。大多数研究人员认为,生产这种晶体管尺寸芯片,需要更先进光刻机。些研究人员试图使用电子束来光刻,但电子束光刻技术速度始终不够快,无法大规模生产。其他人把赌注押在X射线或极紫外光上,每种都会与不同光刻胶化学物质发生反应。在国际光刻专家会议上,科学家们讨论哪种技术会获胜。位与会者说,现在是个在相互竞争工程师群体之间“光刻战争”时代。

寻找新最好光源“战争”,只是光刻未来三场竞赛中场。第二场竞赛是商业性,是关于哪家公司将制造下代光刻机。开发新光刻设备巨大成本推动行业集中,家或两家公司将主宰市场。在美国,GCA已经被清算,而硅谷集团(SiliconValleyGroup)——家从珀金埃尔默衍生出来光刻机公司,远远落后于市场领导者佳能和尼康。20世纪80年代,美国芯片制造商抵挡住日本挑战,但美国光刻机制造商没有。

佳能和尼康唯真正竞争对手是阿斯麦,这是家规模虽小但正在成长荷兰光刻机公司。1984年,荷兰电子公司飞利浦剥离内部光刻部门,创建阿斯麦。在芯片价格,bao跌导致GCA业务下滑同时,分拆时机也非常糟糕。更重要是,在距离荷兰与比利时边境不远维尔德霍芬镇,似乎不太可能诞生半导体行业世界级公司。欧洲是个相当大芯片生产地,但明显落后于硅谷和日本。

彼得·范登赫克(PeterVanDenHurk),《告别个由顶级人士组成大家庭》(Farewelltoa“BigFam

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